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        半導(dǎo)體行業(yè)為什么離不開(kāi)超純水設(shè)備？半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展程度是衡量一個(gè)國(guó)家科技發(fā)展水平的核心指標(biāo)。發(fā)展半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)，必然少不了電子芯片的生產(chǎn)制造。制造芯片的過(guò)程十分復(fù)雜，關(guān)鍵的步驟是沉積、光刻膠涂覆、刻蝕、離子注入和封裝。而這些步驟都離不開(kāi)超純水，因?yàn)樾酒a(chǎn)過(guò)程需要超純水進(jìn)行清洗。

        芯片生產(chǎn)過(guò)程中需要用的工藝清洗用水，得用幾近絕緣的水質(zhì)，被稱作超純水，出水電阻率達(dá)到18Ω .cm左右。除電阻率，半導(dǎo)體生產(chǎn)用水對(duì)如微粒子、 TOC、溶解氧等指標(biāo)也會(huì)有相應(yīng)要求。那么指標(biāo)要求這么高的超純水是如何制備出來(lái)的呢？自然界中不存在超純水，要制備這種超純水，就需要將自然水通過(guò)合適工藝處理而成。

      半導(dǎo)體超純水設(shè)備并不只是一種固定工藝系統(tǒng)，而是很多水處理工藝模塊的靈活組合~包括預(yù)處理過(guò)濾部分、RO反滲透技術(shù)、EDI連續(xù)電解除鹽技術(shù)和拋光混床工藝等。

工藝流程主要包括：

水源進(jìn)水 —— 原水儲(chǔ)水箱  ——  多介質(zhì)過(guò)濾器 —— 活性炭過(guò)濾器 —— 阻垢裝置 —— 5 微米精密過(guò) 濾器 —— 雙級(jí)反滲透純水機(jī)組 —— 反滲透產(chǎn)水儲(chǔ)水箱 —— EDI 超純水制水 機(jī)組 —— 超純水產(chǎn)水儲(chǔ)水箱 

（可根據(jù)行業(yè)生產(chǎn)要求，還會(huì)配置拋光混床，中間水箱等，根據(jù)客戶需求來(lái)定制方案）